一种低能耗微弧氧化装置
专利权的终止
摘要
一种低能耗微弧氧化装置属于金属材料表面加工技术领域。本实用新型在导电溶液中利用微等离子体放电,能直接在铝、钛、镁轻金属表面通过复杂的电化学、等离子体化学和热化学过程原位生长氧化物陶瓷膜层。采用纯方波窄脉冲直流电源,波形准确失真小;研制适合于低能耗的微弧氧化电解液和工艺参数,适用于铝合金、钛合金等金属表面的处理。本实用新型所达到的有益效果是,确保加工质量、大幅度降低了功率消耗、使溶液温度的精确控制变得更加容易。主要适用于金属材料表面加工技术领域。
基本信息
专利标题 :
一种低能耗微弧氧化装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200720012978.5
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2007-06-25
授权号 :
CN201053038Y
授权日 :
2008-04-30
发明人 :
严志军朱新河程东刘一梅徐久军
申请人 :
大连海事大学
申请人地址 :
116026辽宁省大连市凌海路1号
代理机构 :
大连八方知识产权代理有限公司
代理人 :
卫茂才
优先权 :
CN200720012978.5
主分类号 :
C25D11/02
IPC分类号 :
C25D11/02
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C25
电解或电泳工艺;其所用设备
C25D
覆层的电解或电泳生产工艺方法;电铸;工件的电解法接合;所用的装置
C25D11/00
表面反应,即形成转化层的电解覆层
C25D11/02
阳极氧化
法律状态
2010-09-22 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101005930447
IPC(主分类) : C25D 11/02
专利号 : ZL2007200129785
申请日 : 20070625
授权公告日 : 20080430
号牌文件序号 : 101005930447
IPC(主分类) : C25D 11/02
专利号 : ZL2007200129785
申请日 : 20070625
授权公告日 : 20080430
2008-04-30 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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