模块化的激光直刻装置
其他有关事项(避免重复授权放弃专利权)
摘要

一种模块化的激光直刻装置,整套装置采用模块化设计,由激光调制模块、光点扫描模块、激光功率检测模块、自动聚焦模块、控制和检测模块构成。系统将激光器发出的平行激光会聚成光点聚焦在待刻写的样品表面,利用计算机控制射向样品表面的激光强度的同时控制样品移动,即可在样品表面形成具有灰度分布的二维图形。本实用新型可以在不需掩模的情况下直接在光或热阻薄膜材料表面形成纳米构造,具有加工周期短、灵活性高、适用范围广、模块化程度高、加工精度高、可扩展性强等特点。

基本信息
专利标题 :
模块化的激光直刻装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200720072320.3
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2007-07-10
授权号 :
CN201063094Y
授权日 :
2008-05-21
发明人 :
范永涛徐文东
申请人 :
中国科学院上海光学精密机械研究所
申请人地址 :
201800上海市800-211邮政信箱
代理机构 :
上海新天专利代理有限公司
代理人 :
张泽纯
优先权 :
CN200720072320.3
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  B23K26/06  B23K26/08  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2009-04-01 :
其他有关事项(避免重复授权放弃专利权)
放弃生效日 : 2007710
2008-05-21 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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