浅药囊抛光布
专利权的终止
摘要

一种浅药囊抛光布,在基材上面是药囊层,药囊层上布满上开口的药囊,药囊为水滴状,药囊从表面到底部深度为0.2-0.3毫米。药囊层的材料是聚氨酯泡沫塑料。药囊从表面到底部深度0.2毫米。本实用新型效果是:使用这种浅药囊抛光布,加工出来的抛光垫可有效的提高晶片背面的光洁度。本实用新型是技术方案是缩短抛光垫存药的药囊。实施方法为削掉或磨掉药囊多余的部分使药囊缩短,从而在加入还原剂后使药剂中的氯完全快速的中和,提高其表面的光洁度。

基本信息
专利标题 :
浅药囊抛光布
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200720095669.9
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2007-04-02
授权号 :
CN201023216Y
授权日 :
2008-02-20
发明人 :
田鸿义
申请人 :
天津市克鲁格科工贸有限公司
申请人地址 :
300210天津市河西区新城小区2门213
代理机构 :
天津盛理知识产权代理有限公司
代理人 :
王融生
优先权 :
CN200720095669.9
主分类号 :
B24D11/00
IPC分类号 :
B24D11/00  
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B24
磨削;抛光
B24D
磨削、抛光或刃磨用的工具
B24D11/00
柔性磨料的结构特征;生产这类材料的特点
法律状态
2011-06-08 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止授权公告日 : 20080220
终止日期 : 20100402
号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101078688396
IPC(主分类) : B24D 11/00
专利号 : ZL2007200956699
申请日 : 20070402
2008-02-20 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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