旋转喷射等离子表面处理装置

专利权的终止

摘要

本实用新型公开了一种旋转喷射等离子表面处理装置，包括：地电极04，且该地电极04的内部为一空心的腔体，并且与一主动电机01传动连接在一起；在所述地电极04底部腔壁的中轴线处设有喷嘴09，并且该喷嘴09的中心线与所述中轴线间具有一夹角；一正电极09与电源相连，且该正电极09固定在所述地电极04腔体内的中轴线处，而且该正电极09的底部与所述地电极04的底部腔壁的距离为该正电极09顶部直径的1～2倍。通过该装置可产生高等离子密度、无静电感应、处理面积大，且等离子气体温度较低的等离子体射流，从而能够达到更好的工件表面处理效果，提高处理效率。

基本信息

专利标题：

旋转喷射等离子表面处理装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN200720144272.4

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2007-10-26

授权号：

CN201119113Y

授权日：

2008-09-17

发明人：

姚志旭朱伟锋佘宣东

申请人：

姚志旭;朱伟锋;佘宣东;周巍

申请人地址：

200135上海市浦东新区巨野路22号申城公寓B座201室

代理机构：

上海浦一知识产权代理有限公司

代理人：

丁纪铁

优先权：

CN200720144272.4

主分类号：

H05H1/34

IPC分类号：

H05H1/34