气体注入喷嘴

专利权的终止

摘要

本实用新型提供了多个气体注入喷嘴，其适合与等离子体反应器中的气体分布环模制联接以用于处理诸如掩模或晶片的工件。气体注入喷嘴包括具有第一外直径部分和限定顶部的第二外直径部分的中空圆柱体，第一通道形成为纵向穿过此圆柱体并通过第一外直径部分延伸并且至少部分进入到第二外直径部分，第二通道与第一通道同轴地对准并且从第一通道的端部向顶部的端部纵向延伸，其特征在于，第一外直径部分大于第二外直径部分。

基本信息

专利标题：

气体注入喷嘴

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN200720181418.2

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2007-10-29

授权号：

CN201182036Y

授权日：

2009-01-14

发明人：

马德哈唯·R·钱德拉乔德迈克尔·N·格林博金吉姆·K·尼古恩理查德·莱温顿伊伯拉希姆·M·伊伯拉希姆希巴·J·潘纳伊尔阿杰伊·库玛

申请人：

应用材料股份有限公司

申请人地址：

美国加利福尼亚州

代理机构：

北京律诚同业知识产权代理有限公司

代理人：

徐金国

优先权：

CN200720181418.2

主分类号：

H05H1/46

IPC分类号：

H05H1/46 G03F1/00