用于湿制程设备上方排气的液气分离结构
专利权的终止
摘要
本实用新型涉及一种用于湿制程设备上方排气的液气分离结构,其形成在一湿制程设备的一上方排气口上,其包含一集水沟槽与一水流管路,该集水沟槽环设在该上方排气口与该湿制程设备的接缝处,以让该集水沟槽承接由该上方排气口滴落的回滴水,该水流管路的一端连接该集水沟槽的低处位置,该水流管路的另一端朝低处延伸且设置在该湿制程设备之外,据而让该上方排气口凝结滴落的回滴水经由该集水沟槽的承接与该水流管路的排放,而避免成为湿制程设备内的污染源。
基本信息
专利标题 :
用于湿制程设备上方排气的液气分离结构
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200720183482.4
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2007-12-06
授权号 :
CN201130283Y
授权日 :
2008-10-08
发明人 :
李天立邱炳彰钟玉华
申请人 :
均豪精密工业股份有限公司
申请人地址 :
中国台湾新竹县
代理机构 :
北京康信知识产权代理有限责任公司
代理人 :
章社杲
优先权 :
CN200720183482.4
主分类号 :
G02F1/1333
IPC分类号 :
G02F1/1333 H05K3/00 B05B15/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如转换、选通、调制或解调,上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的;用于上述操作的技术或工艺;变频;非线性光学;光学逻辑元件;光学模拟/数字转换器
G02F1/00
控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如,转换、选通或调制;非线性光学
G02F1/01
对强度、相位、偏振或颜色的控制
G02F1/13
基于液晶的,例如单位液晶显示单元
G02F1/133
构造上的设备;液晶单元的工作;电路装置
G02F1/1333
构造上的设备
法律状态
2018-01-23 :
专利权的终止
专利权有效期届满IPC(主分类) : G02F 1/1333
申请日 : 20071206
授权公告日 : 20081008
申请日 : 20071206
授权公告日 : 20081008
2008-10-08 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载