一种具有双边带陡降特性的新型频率选择表面
专利权的终止
摘要

本实用新型涉及一种具有双边带陡降特性的新型频率选择表面。传统频率选择表面选择性低、性能稳定性差、体积大。本实用新型在介质基片的两面镀有金属层,贯穿整个介质基片开有排列为多组大小正方形的金属化通孔,形成多组高频、低频基片集成波导腔体。相邻高频、低频腔体内的上、下金属层蚀刻相同的正方环形耦合缝隙。与普通的由两种不同尺寸的周期性贴片或者缝隙构成的双频带频率选择表面相比,本实用新型由于引入了腔体谐振模式,实现了通带的双边陡降特性,大大提高了通带的选择特性,其性能对于入射波的角度和极化性的稳定性好。

基本信息
专利标题 :
一种具有双边带陡降特性的新型频率选择表面
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200720191628.X
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2007-11-12
授权号 :
CN201117773Y
授权日 :
2008-09-17
发明人 :
罗国清孙玲玲
申请人 :
杭州电子科技大学
申请人地址 :
310018浙江省杭州市江干区下沙高教园区2号大街
代理机构 :
杭州求是专利事务所有限公司
代理人 :
张法高
优先权 :
CN200720191628.X
主分类号 :
H01P1/212
IPC分类号 :
H01P1/212  
法律状态
2012-01-25 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101176121174
IPC(主分类) : H01P 1/212
专利号 : ZL200720191628X
申请日 : 20071112
授权公告日 : 20080917
终止日期 : 20101112
2008-09-17 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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