具有改善等离子体均匀度的电极
专利权的终止
摘要

本实用新型提供一种具有改善等离子体均匀度的电极,其用于一可产生等离子体的腔体。该电极结构主要包含一电极片,具有一第一表面及一第二表面,其电性连接于一射频电流源,以及一微扰槽孔,其对称蚀刻于该电极片的一边。该微扰槽孔与该射频电流源为同一方向。通过良好设计微扰槽孔,该电极可有效改善等离子体均匀度,且适用于各种材料的基板,可广泛应用等离子体制造系统中。

基本信息
专利标题 :
具有改善等离子体均匀度的电极
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200820003601.8
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2008-01-18
授权号 :
CN201185171Y
授权日 :
2009-01-21
发明人 :
黄明鸿叶公旭杨正安何建立
申请人 :
东捷科技股份有限公司
申请人地址 :
台湾省台南县新市乡南科五路6号3楼
代理机构 :
北京律诚同业知识产权代理有限公司
代理人 :
梁挥
优先权 :
CN200820003601.8
主分类号 :
H01J37/04
IPC分类号 :
H01J37/04  H05H1/34  H01L21/00  H01L21/3065  
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J37/00
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管,例如为了对其检验或加工的
H01J37/02
零部件
H01J37/04
电极装置及与产生或控制放电的部件有关的装置,如电子光学装置,离子光学装置
法律状态
2011-03-30 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101060687946
IPC(主分类) : H01J 37/04
专利号 : ZL2008200036018
申请日 : 20080118
授权公告日 : 20090121
终止日期 : 20100220
2009-01-21 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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