一种成像法荧光检测农药残留的装置
专利权的终止
摘要

本实用新型公开了一种成像法荧光检测农药残留的装置,包括有紫外光源,紫外光源后端的光路中安装有低通滤光片、透镜、与光轴倾斜45°的分色片,分色片前端反射光路中放置有样品,分色片后端的样品荧光反射光路中安装有放大率为1的二个透镜组,二个透镜组之间安装有光阑,透镜组的出射光成像于面阵CCD探测器。运用了近几年被广泛研究的荧光分析原理为基础,荧光检测采用面阵CCD探测器检测背景区域与目标区域的荧光强度,同时获得目标的几何形状,通过图像处理、轮廓的平滑消除紫外灯、试纸、试剂带来的不稳定性因素,从而得出目标区域的荧光强度的相对变化,与标准比对,确定农药残留的含量,可避免荧光的干扰,提高检测的灵敏度和准确度。

基本信息
专利标题 :
一种成像法荧光检测农药残留的装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200820031608.0
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2008-01-29
授权号 :
CN201273879Y
授权日 :
2009-07-15
发明人 :
杨伟锋洪津钱玮肖衡李传宝汪元均宋茂新龚平孟凡刚李双
申请人 :
中国科学院安徽光学精密机械研究所
申请人地址 :
230031安徽省合肥市蜀山湖路350号1125信箱
代理机构 :
安徽合肥华信知识产权代理有限公司
代理人 :
余成俊
优先权 :
CN200820031608.0
主分类号 :
G01N21/64
IPC分类号 :
G01N21/64  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段,即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/62
所测试的材料在其中被激发,因之引起材料发光或入射光的波长发生变化的系统
G01N21/63
光学激发的
G01N21/64
荧光;磷光
法律状态
2011-04-20 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101063891798
IPC(主分类) : G01N 21/64
专利号 : ZL2008200316080
申请日 : 20080129
授权公告日 : 20090715
终止日期 : 20100129
2009-07-15 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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