用于啁啾脉冲放大的自准直凹面调制光谱调制整形装置
避免重复授权放弃专利权
摘要
本实用新型涉及一种用于啁啾脉冲放大(CPA)系统的自准直凹面调制光谱调制整形装置。包括自准直凹面调制CTSI光谱分解系统,CTSI光谱合成系统和凹面光谱调制反射镜构成的光谱调制系统;利用CTSI光谱分解系统先将激光啁啾脉冲完全真实展开到光谱面,再利用光谱调制系统在像平面上进行光谱调制,然后利用CTSI光谱合成系统将调制后的光谱无畸变的还原为调制后的啁啾脉冲,达到光谱调制整形目的。本实用新型采用自准直调制系统经原路返回,所用光学元件少,具有结构紧凑,占用空间少,价格较低,稳定性强等特点;本实用新型可对一般激光脉冲实现光谱调制和光谱整形,尤其适用于几个纳米带宽的大口径大能量高功率CPA系统。
基本信息
专利标题 :
用于啁啾脉冲放大的自准直凹面调制光谱调制整形装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200820055711.9
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2008-02-26
授权号 :
CN201166733Y
授权日 :
2008-12-17
发明人 :
李铭戴亚平王韬张彬范正修
申请人 :
上海激光等离子体研究所
申请人地址 :
201800上海市嘉定城中路199号
代理机构 :
成都科海专利事务有限责任公司
代理人 :
刘双兰
优先权 :
CN200820055711.9
主分类号 :
G02B17/06
IPC分类号 :
G02B17/06 G02B27/09 H01S3/10
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B17/00
有或无折射元件的具有反射面的系统
G02B17/02
反射光系统,例如,影像竖立和倒向系统
G02B17/06
只用反射镜的
法律状态
2011-03-16 :
避免重复授权放弃专利权
号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101072735669
IPC(主分类) : G02B 17/06
专利号 : ZL2008200557119
申请日 : 20080226
授权公告日 : 20081217
放弃生效日 : 20080226
号牌文件序号 : 101072735669
IPC(主分类) : G02B 17/06
专利号 : ZL2008200557119
申请日 : 20080226
授权公告日 : 20081217
放弃生效日 : 20080226
2008-12-17 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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