用于啁啾脉冲放大光谱整形的介质膜结构反射镜
专利权的终止
摘要
本实用新型涉及一种啁啾脉冲放大光谱整形介质膜结构反射镜。该反射镜包括透明基板,高反射膜系,微浮雕结构,外层保护层;高反射膜系由多层介质膜交替构成,其高折射率膜层与低折射率膜层均与微浮雕结构紧密搭界;微浮雕结构可为多种性状:或微镜高透膜系结构,或空气介质结构,或玻璃浮雕结构,或其他透明介质如半导体结构。当平面波结构的高功率激光啁啾脉冲垂直入射到该反射镜上,光通过高反射膜系,微浮雕结构,剩余光全部透过透明基板到反射镜背后;反射光强分布则调制到所需光谱分布结构。本实用新型反射镜可插入到放大器链路的任何地方,其整形光谱色散分辨本领可达一埃,幅度调制在保证相位不变的条件下超过60%,可用于拍瓦(PW)装置上。
基本信息
专利标题 :
用于啁啾脉冲放大光谱整形的介质膜结构反射镜
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200720080292.X
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2007-07-13
授权号 :
CN201138413Y
授权日 :
2008-10-22
发明人 :
李铭张彬戴亚平范正修王韬黄伟
申请人 :
四川大学;上海激光等离子体研究所
申请人地址 :
610064四川省成都市四川大学电子信息学院
代理机构 :
成都科海专利事务有限责任公司
代理人 :
刘双兰
优先权 :
CN200720080292.X
主分类号 :
G02F1/39
IPC分类号 :
G02F1/39 G02B5/08
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如转换、选通、调制或解调,上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的;用于上述操作的技术或工艺;变频;非线性光学;光学逻辑元件;光学模拟/数字转换器
G02F1/19
•• G02F1/015至G02F1/167不包括的基于可变的反射或折射元件的
G02F1/35
非线性光学
G02F1/39
用于可见光、红外光或紫外光波的参数产生或放大的
法律状态
2012-09-12 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101325712455
IPC(主分类) : G02F 1/39
专利号 : ZL200720080292X
申请日 : 20070713
授权公告日 : 20081022
终止日期 : 20110713
号牌文件序号 : 101325712455
IPC(主分类) : G02F 1/39
专利号 : ZL200720080292X
申请日 : 20070713
授权公告日 : 20081022
终止日期 : 20110713
2008-10-22 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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