音膜结构

授权

摘要

本实用新型涉及一种音膜结构，该音膜结构系置放于一发声装置内部，而该发声装置系包括一框架、一设于该框架中的音膜结构及一悬边，该悬边的内周缘连接该音膜结构，而该悬边的外周缘连接该框架，其中该音膜结构包括一振膜本体及一复合材料层，该复合材料层结合该振膜本体的表面上或吸附于振膜本体内，而该复合材料层是由一种或一种以上的四吡咯化合物及一种或一种以上的金属离子所组成，另外该复合材料层之厚度系小于该振膜本体之厚度，该音膜结构放置于一发声装置内部作为扬声器使用。本实用新型提出的一种音膜结构通过表面结合四吡咯化合物和金属离子达到修饰声音音质的效果。

基本信息

专利标题：

音膜结构

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201921128575.6

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-07-18

授权号：

CN210899582U

授权日：

2020-06-30

发明人：

王青柏陈建盛李濠志李维仁

申请人：

辅仁大学学校财团法人辅仁大学;微相科技股份有限公司

申请人地址：

中国台湾新北市新庄区中正路510号

代理机构：

北京汇智英财专利代理事务所(普通合伙)

代理人：

郑玉洁

优先权：

CN201921128575.6

主分类号：

H04R7/12

IPC分类号：

H04R7/12