非对称型移相光栅标记
其他有关事项(避免重复授权放弃专利权)
摘要

一种非对称型移相光栅标记及在光刻机物镜像差检测中的应用,所述标记由两组非对称型移相光栅组成,两组光栅的线条方向分别为90度和0度,所述标记为交替型移相光栅,光栅中两相邻透光区域的相位差为180度;移相光栅的线空比为1∶2,移相光栅的周期为1.92λ/NA,其中,λ为光刻机照明光源的波长,NA为光刻机投影物镜数值孔径可变化范围内其最大与最小值的平均值。本实用新型通过优化移相光栅的结构和尺寸,测试标记的像差灵敏度明显提高,利用该测试标记检测光刻机投影物镜的波像差,检测精度明显提高。

基本信息
专利标题 :
非对称型移相光栅标记
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200820056215.5
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2008-03-14
授权号 :
CN201181391Y
授权日 :
2009-01-14
发明人 :
邱自成王向朝袁琼雁
申请人 :
中国科学院上海光学精密机械研究所
申请人地址 :
201800上海市800-211邮政信箱
代理机构 :
上海新天专利代理有限公司
代理人 :
张泽纯
优先权 :
CN200820056215.5
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  G02B27/00  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2009-12-02 :
其他有关事项(避免重复授权放弃专利权)
放弃生效日 : 2008314
2009-01-14 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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