等离子体喷流装置
专利权的终止
摘要

等离子体喷流装置,属于等离子体发生装置,目的在于产生长距离、低温、富含活性成份的等离子体喷流,并且电极位置安全,适用于多种气体放电。本实用新型高压电极置于内介质管内、并共同位于外介质容器内,电源连接高压电极,外介质容器与工作气体源连通,内介质管呈单端封口空心管状,内介质管封口端内具有与高压电极一端连通的导电材料,内介质管内高压电极另一端具有绝缘堵头,高压电极由绝缘堵头和导电材料固定。本实用新型易制作、好维护、使用安全方便,工作气体范围广,等离子体喷流温度、长度、粗细可变化,进一步拓展了等离子体技术的应用范围,提高了其应用效果。

基本信息
专利标题 :
等离子体喷流装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200820065579.X
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2008-01-29
授权号 :
CN201167434Y
授权日 :
2008-12-17
发明人 :
卢新培潘垣
申请人 :
华中科技大学
申请人地址 :
430074湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号
代理机构 :
华中科技大学专利中心
代理人 :
方放
优先权 :
CN200820065579.X
主分类号 :
H05H1/26
IPC分类号 :
H05H1/26  H01J37/32  
法律状态
2013-03-27 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件序号 : 101425732789
IPC(主分类) : H05H 1/26
专利号 : ZL200820065579X
申请日 : 20080129
授权公告日 : 20081217
终止日期 : 20120129
号牌文件类型代码 : 1605
2008-12-17 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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