真空电镀炉用支架

专利权的终止

摘要

一种真空电镀炉用支架，包括有纵向布置的主架，所述主架上设有与之相交固接的横杆，位于同一水平高度的若干横杆组成一排，所述横杆至少为上下两排；上排的横杆上设有上下贯通的通孔，下排横杆上对应通孔位置设有底部封口的凹槽，所述通孔与凹槽位于同一直线上。本实用新型通过在主架上固接横杆，上下横杆通过通孔和凹槽配合，使固定有锁体的夹具的主架上下端通过通孔和凹槽定位，操作方便；多根位于同一水平高度的同排横杆呈放射状结构排列，这样可以同时固定多个夹具，空间利用率高；主架上可以根据需要设置多排横杆，相邻排上下横杆互相配合，固定夹具更多。

基本信息

专利标题：

真空电镀炉用支架

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN200820081966.2

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2008-01-09

授权号：

CN201169621Y

授权日：

2008-12-24

发明人：

金梁

申请人：

金梁

申请人地址：

321200浙江省武义县熟溪街道东南工业区(双路亭)恒源玻璃制品厂

代理机构：

代理人：

优先权：

CN200820081966.2

主分类号：

C23C14/50

IPC分类号：

C23C14/50