抛光垫

专利权的终止

摘要

本实用新型提供一种抛光垫，特别是涉及一种抛光垫的抛光面槽底的宽度为0mm的抛光垫。此抛光垫具有一抛光面，并具有至少一沟槽设于抛光面上，其中沟槽具有一槽口与一槽底，其特征在于抛光面的槽底的宽度为0mm，因此进行于抛光作业时，悬浮于抛光液中的研磨颗粒不易沉积于槽底，避免待磨物受沉积物的刮伤而受损。

基本信息

专利标题：

抛光垫

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN200820133824.6

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2008-09-27

授权号：

CN201300373Y

授权日：

2009-09-02

发明人：

邱汉郎陈少禹郑裕隆

申请人：

贝达先进材料股份有限公司

申请人地址：

中国台湾桃园县

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司

代理人：

梁爱荣

优先权：

CN200820133824.6

主分类号：

B24D13/14

IPC分类号：

B24D13/14 B24B29/02 H01L21/304

IPC结构图谱

B部——作业；运输

B24

磨削；抛光

B24D

磨削、抛光或刃磨用的工具

B24D13/00

具有挠性作用的工作部分的轮，如抛光轮；及其固定件

B24D13/14

用其前面作用的

法律状态

2018-10-26 ：

专利权的终止

专利权有效期届满IPC(主分类) : B24D 13/14
申请日 : 20080927
授权公告日 : 20090902

2009-09-02 ：

授权

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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