用于785纳米波段熔融石英透射1×3偏振无关分束光栅

专利权的终止

摘要

一种用于785纳米波段的熔融石英透射1×3偏振无关分束光栅，是一种矩形高密度深刻蚀光栅，该光栅的周期为1064-1072纳米、刻蚀深度为2.580-2.602微米，光栅的占空比为0.5。本实用新型可以使TE偏振光0级衍射和±1级衍射的效率分别为32.47％和32.51％，TM偏振光0级衍射和±1级衍射的效率分别为32.95％和32.97％，总衍射效率均高于97％，对TE和TM偏振光可以同时实现近乎理想的高效率1×3分束。

基本信息

专利标题：

用于785纳米波段熔融石英透射1×3偏振无关分束光栅

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN200820151906.3

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2008-08-13

授权号：

CN201242598Y

授权日：

2009-05-20

发明人：

周常河冯吉军

申请人：

中国科学院上海光学精密机械研究所

申请人地址：

201800上海市800-211邮政信箱

代理机构：

上海新天专利代理有限公司

代理人：

张泽纯

优先权：

CN200820151906.3

主分类号：

G02B5/18

IPC分类号：

G02B5/18 G03F7/00