800纳米波段的石英透射偏振分束光栅
专利权的终止
摘要
一种用于800纳米波段的石英透射偏振分束光栅，其特征在于该光栅的周期为598－622纳米、刻蚀深度为2.40－2.50微米，光栅的占空比为1/2。该偏振分束光栅的消光比大于100，TE偏振光的0级透射衍射效率和TM偏振光的1级透射衍射效率分别高于95.61％和96.41％。特别是光栅周期为609纳米，刻蚀深度为2.45微米时，本发明偏振分束光栅的消光比达到1.04×104，TE偏振光0级透射衍射效率为97.23％，TM偏振光1级透射衍射效率为98.25％；本发明石英透射偏振分束光栅由光学全息记录技术或电子束直写装置结合微电子深刻蚀工艺加工而成，可以低成本大批量生产。
基本信息
专利标题 ：
800纳米波段的石英透射偏振分束光栅
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1815276A
申请号 ：
CN200610024491.9
公开（公告）日 ：
2006-08-09
申请日 ：
2006-03-08
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
周常河王博
申请人 ：
中国科学院上海光学精密机械研究所
申请人地址 ：
201800上海市800－211邮政信箱
代理机构 ：
上海新天专利代理有限公司
代理人 ：
张泽纯
优先权 ：
CN200610024491.9
主分类号 ：
G02B5/18
IPC分类号 ：
G02B5/18 G03F7/00 G02B27/28
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B5/00
除透镜外的光学元件
G02B5/18
衍射光栅
法律状态
2015-04-29 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101607917398
IPC(主分类) : G02B 5/18
专利号 : ZL2006100244919
申请日 : 20060308
授权公告日 : 20071003
终止日期 : 20140308
号牌文件序号 : 101607917398
IPC(主分类) : G02B 5/18
专利号 : ZL2006100244919
申请日 : 20060308
授权公告日 : 20071003
终止日期 : 20140308
2007-10-03 ：
授权
2006-10-04 ：
实质审查的生效
2006-08-09 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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