632.8纳米波长背入射式石英反射偏振分束光栅

专利权的终止

摘要

一种632.8纳米波段的背入射式石英反射偏振分束光栅，该光栅的周期为281～286纳米、刻蚀深度为0.800～0.810微米、光栅的占空比为1/2时，偏振分束光栅的消光比大于100，TE偏振光的0级反射衍射效率和TM偏振光的1级反射衍射效率分别高于99.09％和99.73％，特别是光栅周期为283纳米，刻蚀深度为0.805微米时，本发明的偏振分束光栅的消光比达到2.07×10⁴，TE偏振光0级反射衍射效率和TM偏振光1级反射衍射效率均接近于1；该偏振分束光栅在628～637纳米波长范围内消光比大于100，TE偏振光的0级反射衍射效率和TM偏振光的1级反射衍射效率分别高于99.13％和99.73％；在49.22°－51.02°角度带宽内消光比大于100，TE偏振光的0级反射衍射效率和TM偏振光的1级反射衍射效率分别高于99.99％和99.00％。

基本信息

专利标题：

632.8纳米波长背入射式石英反射偏振分束光栅

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1821818A

申请号：

CN200610024951.8

公开（公告）日：

2006-08-23

申请日：

2006-03-22

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

周常河王博

申请人：

中国科学院上海光学精密机械研究所

申请人地址：

201800上海市800－211邮政信箱

代理机构：

上海新天专利代理有限公司

代理人：

张泽纯

优先权：

CN200610024951.8

主分类号：

G02B5/18

IPC分类号：

G02B5/18