熔融石英透射1×2分束光栅
专利权的终止
摘要
一种用于常用波段1550纳米光纤通信的熔融石英透射1×2分束光栅，是一种矩形高密度深刻蚀光栅，光栅的占空比为0.500、周期为1550纳米、刻蚀深度为1.380微米或1.739微米。本实用新型熔融石英光栅由光学全息记录技术或电子束直写装置结合微电子深刻蚀工艺加工而成，可以低成本、大批量生产。
基本信息
专利标题 ：
熔融石英透射1×2分束光栅
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN200720076154.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2007-11-14
授权号 ：
CN201166715Y
授权日 ：
2008-12-17
发明人 ：
周常河王博
申请人 ：
中国科学院上海光学精密机械研究所
申请人地址 ：
201800上海市800－211邮政信箱
代理机构 ：
上海新天专利代理有限公司
代理人 ：
张泽纯
优先权 ：
CN200720076154.4
主分类号 ：
G02B5/18
IPC分类号 ：
G02B5/18
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B5/00
除透镜外的光学元件
G02B5/18
衍射光栅
法律状态
2011-01-19 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101032503151
IPC(主分类) : G02B 5/18
专利号 : ZL2007200761544
申请日 : 20071114
授权公告日 : 20081217
终止日期 : 20091214
号牌文件序号 : 101032503151
IPC(主分类) : G02B 5/18
专利号 : ZL2007200761544
申请日 : 20071114
授权公告日 : 20081217
终止日期 : 20091214
2008-12-17 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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