一种用于532nm的偏振分束光栅
授权
摘要
本实用新型涉及一种用于532nm的偏振分束光栅，包括薄膜和固定在所述薄膜底部的介质基底；所述薄膜的沟槽形状为正弦槽型；所述薄膜的材质为金属材质；所述介质基底的材质为玻璃；所述薄膜的周期P的范围为266nm至532nm；所述薄膜的厚度T的范围为100nm至1um；所述薄膜的刻蚀深度H的范围为70nm至120nm。该偏振分束光栅可以对532nm激光实现偏振分束，把TE偏振光衍射至0级，衍射效率大于95%，把TM偏振光衍射至‑1级，衍射效率大于95%。
基本信息
专利标题 ：
一种用于532nm的偏振分束光栅
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021181134.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-06-23
授权号 ：
CN212321886U
授权日 ：
2021-01-08
发明人 ：
张新彬梁万国陈怀熹冯新凯李广伟古克义
申请人 ：
福建中科晶创光电科技有限公司
申请人地址 ：
福建省福州市闽侯县上街镇海西高新技术产业园中科院海西研究院工作区3号楼726室
代理机构 ：
福州科扬专利事务所
代理人 ：
魏珊珊
优先权 ：
CN202021181134.5
主分类号 ：
G02B5/18
IPC分类号 ：
G02B5/18 G02B5/30
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B5/00
除透镜外的光学元件
G02B5/18
衍射光栅
法律状态
2021-01-08 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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