光学材料用树脂组合物、光学材料用树脂薄膜及使用其的光导
专利权的终止
摘要
本发明提供对于具有高透明性和高耐热性、且能形成高精度厚膜的光导形成用树脂薄膜特别有用的光学材料用树脂组合物，以及使用该树脂组合物的光学材料用树脂薄膜和使用它的光导。光学材料用树脂组合物，其特征在于含有作为(B)光聚合性化合物的上述通式(I)表示的芴二(甲基)丙烯酸酯和(C)光聚合引发剂，式(I)中，X是上述式(II)表示的基团，Y是氢或甲基，m和n分别是1～20的整数，式(II)中，R1～R16分别独立地是氢、碳原子数1～12的烷基、碳原子数1～6的烷氧基、总碳原子数2～7的烷氧基羰基、碳原子数6～10的芳基、或碳原子数7～9的芳烷基。
基本信息
专利标题 ：
光学材料用树脂组合物、光学材料用树脂薄膜及使用其的光导
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101592860A
申请号 ：
CN200910140018.0
公开（公告）日 ：
2009-12-02
申请日 ：
2005-10-07
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
柴田智章牧野龙也落合雅美高桥敦之高崎俊彦
申请人 ：
日立化成工业株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京银龙知识产权代理有限公司
代理人 ：
钟 晶
优先权 ：
CN200910140018.0
主分类号 ：
G03F7/004
IPC分类号 ：
G03F7/004 G02B6/12 G02B6/138
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
法律状态
2019-09-24 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : G03F 7/004
申请日 : 20051007
授权公告日 : 20120404
终止日期 : 20181007
申请日 : 20051007
授权公告日 : 20120404
终止日期 : 20181007
2012-04-04 ：
授权
2010-01-27 ：
实质审查的生效
2009-12-02 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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