具有激光限定的电解抛光弱化线的反向作用破裂盘及形成该弱化...
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摘要

提供一种具有激光限定电解抛光弱化线凹槽的反向作用破裂盘,和在反向作用破裂盘上形成电解抛光弱化线凹槽以确保盘在反向时完全打开的方法。将破裂盘坯件预隆起、最终隆起、并然后设置一层保护层材料。使用激光来移除与隆起破裂盘的凹陷面上所要求弱化线凹槽对应的至少一部分保护层材料。然后该盘经受电解抛光操作以从破裂盘的经激光照射的区域移除金属,由此在盘上形成有光泽的抛光的弱化线凹槽并具有所要求构造和与材料厚度有关的预定深度。该电解抛光弱化线由隔开的相对通道部分限定,所述隔开的相对通道部分由中心突出的冠状部分开,所述通道部分比所述冠状部深。具有电解抛光弱化线凹槽的盘的爆裂/反向压力通过改变盘上的预隆起压力而可选择地控制。

基本信息
专利标题 :
具有激光限定的电解抛光弱化线的反向作用破裂盘及形成该弱化线的方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN101748473A
申请号 :
CN200910208058.4
公开(公告)日 :
2010-06-23
申请日 :
2006-03-23
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
B·F·肖B·T·斯帝威尔M·D·科瑞比尔B·W·伦纳德
申请人 :
法克有限公司
申请人地址 :
美国密苏里州
代理机构 :
上海专利商标事务所有限公司
代理人 :
朱立鸣
优先权 :
CN200910208058.4
主分类号 :
C25F3/16
IPC分类号 :
C25F3/16  F16K17/16  
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C25
电解或电泳工艺;其所用设备
C25F
电解法除去物体上材料的方法;其所用的设备
C25F3/00
电解浸蚀或抛光
C25F3/16
抛光
法律状态
2012-12-19 :
授权
2010-08-18 :
实质审查的生效
号牌文件类型代码 : 1604
号牌文件序号 : 101004903078
IPC(主分类) : C25F 3/16
专利申请号 : 2009102080584
申请日 : 20060323
2010-06-23 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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