包含表面活性剂的化学机械抛光组合物

专利权的终止

摘要

本发明涉及包含表面活性剂的化学机械抛光组合物，更具体地说，本发明提供一种抛光组合物，其包括热解法氧化铝，α-氧化铝，二氧化硅，非离子表面活性剂，金属螯合有机酸，及液体载体。本发明还提供一种化学机械抛光基板的方法，其包括将基板与抛光垫和化学机械抛光组合物接触，并磨掉至少部分基板以抛光该基板。

基本信息

专利标题：

包含表面活性剂的化学机械抛光组合物

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN102337080A

申请号：

CN201110150388.X

公开（公告）日：

2012-02-01

申请日：

2005-10-21

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

孙韬罗伯特·梅兹克

申请人：

卡伯特微电子公司

申请人地址：

美国伊利诺伊州

代理机构：

北京市柳沈律师事务所

代理人：

宋莉

优先权：

CN201110150388.X

主分类号：

C09G1/02

IPC分类号：

C09G1/02 G11B5/84 H01L21/321

IPC结构图谱

C部——化学；冶金

C09

染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用

C09G

抛光组合物；滑雪屐蜡

C09G1/00

抛光组合物

C09G1/02

含有磨料或研磨剂

法律状态

2019-10-18 ：

专利权的终止

未缴年费专利权终止IPC(主分类) : C09G 1/02
申请日 : 20051021
授权公告日 : 20160120
终止日期 : 20181021

2016-01-20 ：

授权

2012-03-28 ：

实质审查的生效

号牌文件类型代码 : 1604
号牌文件序号 : 101211312168
IPC(主分类) : C09G 1/02
专利申请号 : 201110150388X
申请日 : 20051021

2012-02-01 ：

公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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