一种用于增强检测信号的对称V形金纳米光学天线
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摘要

本发明公开了一种用于增强检测信号的对称V形金纳米光学天线,包括至少一组对称结构,所述对称结构由两个V形结构相对称地设置构成,所述V形结构的边宽范围为6nm‑14nm,V形结构的边长范围为80nm‑120nm,V形结构的夹角范围为30°‑90°,所述V形金纳米光学天线的间隔范围为2nm‑10nm。本发明天线通过多重V形结构耦合的方法可以在不改变V形结构夹角的情况下进一步提高电磁场增强因子,较大电磁场增强因子的产生使得本发明可以很好的应用在单分子的检测中来提高检测信号的强度,从而设计出较高局域场增强的纳米天线,使得本发明天线可以很好的用于增强单分子检测信号。

基本信息
专利标题 :
一种用于增强检测信号的对称V形金纳米光学天线
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN106159425A
申请号 :
CN201610776663.1
公开(公告)日 :
2016-11-23
申请日 :
2016-08-30
授权号 :
CN106159425B
授权日 :
2022-05-27
发明人 :
林旺陈万里冯远明
申请人 :
天津大学
申请人地址 :
天津市南开区卫津路92号
代理机构 :
天津市北洋有限责任专利代理事务所
代理人 :
刘子文
优先权 :
CN201610776663.1
主分类号 :
H01Q1/36
IPC分类号 :
H01Q1/36  B82Y20/00  
法律状态
2022-05-27 :
授权
2016-12-21 :
实质审查的生效
号牌文件类型代码 : 1604
号牌文件序号 : 101692519736
IPC(主分类) : H01Q 1/36
专利申请号 : 2016107766631
申请日 : 20160830
2016-11-23 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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