本发明涉及光学薄膜领域，涉及一种柔性铜网栅基触摸屏及制备方法。柔性铜网栅基导电膜和光学胶，柔性铜网栅基导电膜包括柔性透明衬底、减反增透层、铜网栅导电层；本发明采用在PET衬底的上下表面溅镀减反增透层，提高衬底的透过率，减少表面的反射光，然后再在一侧的减反增透层表面溅镀铜金属导电复合层；采用光刻工艺对铜金属导电层进行刻蚀，制备高透过率低电阻的透明导电薄膜；用光学胶把两片相同结构的透明导电膜粘接，使铜网栅层与光学胶接触，得到触摸屏用电极结构。本发明可见光透过率高于98％，表面方阻低于6Ω/□，色度值b*小于0.3，铜膜表面的反射率低于4％，铜膜背面(PET膜未镀膜测)的反射率低于5％。所述的触摸屏表面的反射率低于0.5％。