具有用于待处理的流体介质的三维循环基体的分离器元件
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摘要

本发明涉及分离器元件,其包括刚性多孔单件式支撑构件(2),其首先在其外周处,在多孔支撑构件的一侧的用于待处理的流体介质的入口(4)与多孔支撑构件的另一侧的用于滞留物的出口(5)间具有连续周壁(2i),而在内部具有由至少一个分离器层(6)覆盖并限定由用于循环待处理的流体介质的空的空间(3)形成的开放结构的至少一个表面。根据本发明,用作待处理的流体介质的通路的空的空间(3)由分隔层(6)覆盖的支撑构件的表面限定,该空的空间被布置在多孔支撑构件中,由此在所述构件内形成用于待处理的流体介质(RI)的包括至少两个互连回路(R1i、R12)的第一循环基体,以在多孔支撑构件的入口(4)与入口(5)间使流体介质循环。

基本信息
专利标题 :
具有用于待处理的流体介质的三维循环基体的分离器元件
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN107708844A
申请号 :
CN201680030948.9
公开(公告)日 :
2018-02-16
申请日 :
2016-05-25
授权号 :
CN107708844B
授权日 :
2022-04-19
发明人 :
P·莱斯科舍J·安奎蒂尔
申请人 :
高技术与膜工业公司
申请人地址 :
法国尼永
代理机构 :
隆天知识产权代理有限公司
代理人 :
聂慧荃
优先权 :
CN201680030948.9
主分类号 :
B01D63/06
IPC分类号 :
B01D63/06  B01D67/00  B01D46/24  C04B38/00  
相关图片
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B01
一般的物理或化学的方法或装置
B01D63/00
用于半透膜分离工艺的一般设备
B01D63/06
管状膜组件
法律状态
2022-04-19 :
授权
2018-06-15 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : B01D 63/06
申请日 : 20160525
2018-02-16 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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