喷嘴单元
授权
摘要
本发明提供一种防止在向FOUP填充气体时大气进入的喷嘴单元。因此，该喷嘴单元包括：喷嘴主体(71)，其具有连通于用于收纳收纳物的容器(7)的气体供给口(72)和连通于气体供给口(72)的气体流路(77)；供给喷嘴(78)，其连接于气体流路(77)，用于经由气体供给口(72)向容器供给气体；以及排气喷嘴(83)，其连接于气体流路(77)，用于对气体流路(77)进行排气。
基本信息
专利标题 ：
喷嘴单元
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN107949905A
申请号 ：
CN201680050938.1
公开（公告）日 ：
2018-04-20
申请日 ：
2016-08-19
授权号 ：
CN107949905B
授权日 ：
2022-05-31
发明人 ：
河合俊宏重田贵司吉川雅顺
申请人 ：
昕芙旎雅有限公司
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
刘新宇
优先权 ：
CN201680050938.1
主分类号 ：
H01L21/677
IPC分类号 ：
H01L21/677 H01L21/673
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21/677
用于传送的，例如在不同的工作站之间
法律状态
2022-05-31 ：
授权
2018-08-21 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 21/677
申请日 : 20160819
申请日 : 20160819
2018-04-20 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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