光清洗处理装置
授权
摘要
本发明目的在于提供能够在短时间内执行由石英玻璃构成的模板的表面的清洗处理的光清洗处理装置。本发明的光清洗处理装置是通过紫外线对纳米压印中所使用的由石英玻璃构成的模板的表面进行清洗处理的光清洗处理装置，其特征在于，具备：处理室形成件，配置作为处理对象的模板，并形成被供给处理用气体的处理室；壳体，具有窗部件，该窗部件隔着间隙而与配置于上述处理室的上述模板相向设置并使紫外线透过；紫外线光源，配置于上述壳体内，经由上述窗部件而向上述模板照射紫外线；及加热单元，对上述模板进行加热。
基本信息
专利标题 ：
光清洗处理装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN109414849A
申请号 ：
CN201780041541.0
公开（公告）日 ：
2019-03-01
申请日 ：
2017-06-16
授权号 ：
CN109414849B
授权日 ：
2022-05-10
发明人 ：
吉原启太广濑贤一
申请人 ：
优志旺电机株式会社
申请人地址 ：
日本国东京都千代田区
代理机构 ：
中原信达知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
王兆阳
优先权 ：
CN201780041541.0
主分类号 ：
B29C33/72
IPC分类号 ：
B29C33/72 B08B7/00 B29C59/02 H01L21/027
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B29
塑料的加工；一般处于塑性状态物质的加工
B29C
塑料的成型连接；塑性状态材或料的成型，不包含在其他类目中的；已成型产品的后处理，例如修整
B29C33/00
模型或型芯；其零件或所用的附件
B29C33/70
维修
B29C33/72
清洗
法律状态
2022-05-10 ：
授权
2019-03-26 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : B29C 33/72
申请日 : 20170616
申请日 : 20170616
2019-03-01 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
