水处理膜清洗装置和清洗方法
授权
摘要

在水处理膜清洗装置中,构成为设置有2个臭氧溶解槽,该2个臭氧溶解槽用于存储通过水处理膜对原水进行过滤而得到的过滤水,将该过滤水与从臭氧气体提供部提供的臭氧气体混合并生成含有臭氧气体的过滤水的气体吸引装置附设于每个臭氧溶解槽,在一个臭氧溶解槽中产生的废臭氧气体被附设于另一个臭氧溶解槽的气体吸引装置吸引,在通过该气体吸引装置来将过滤原水而得到的过滤水与废臭氧气体混合后,在另一个臭氧溶解槽中将该过滤水与臭氧气体混合至规定浓度,并且将该含有臭氧气体的过滤水从所述水处理膜的过滤二次侧提供向过滤一次侧,从而清洗该水处理膜。

基本信息
专利标题 :
水处理膜清洗装置和清洗方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN111032578A
申请号 :
CN201880052571.6
公开(公告)日 :
2020-04-17
申请日 :
2018-07-20
授权号 :
CN111032578B
授权日 :
2022-05-31
发明人 :
古贺大道时盛孝一安永望
申请人 :
三菱电机株式会社
申请人地址 :
日本东京
代理机构 :
上海专利商标事务所有限公司
代理人 :
邓晔
优先权 :
CN201880052571.6
主分类号 :
C02F1/44
IPC分类号 :
C02F1/44  B01D65/02  B01D65/06  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C02
水、废水、污水或污泥的处理
C02F
水、废水、污水或污泥的处理
C02F1/00
水、废水或污水的处理C02F3/00至C02F9/00优先)
C02F1/44
渗析法、渗透法或反渗透法
法律状态
2022-05-31 :
授权
2020-05-12 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C02F 1/44
申请日 : 20180720
2020-04-17 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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