处理液、试剂盒、处理液的制造方法、基板的清洗方法、基板的...
实质审查的生效
摘要
本发明的课题在于提供一种半导体器件用处理液，所述处理液相对于金属层的耐腐蚀性优异。并且，本发明的课题在于提供一种试剂盒、上述处理液的制造方法、使用上述处理液的基板的清洗方法及使用上述处理液的基板的处理方法。本发明的处理液为半导体器件用处理液，其包含水及有机溶剂，有机溶剂为由有机溶剂A及有机溶剂B构成的组合，且至少包含特定的组合1～6中的任一个组合，pH为5以上。
基本信息
专利标题 ：
处理液、试剂盒、处理液的制造方法、基板的清洗方法、基板的处理方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114364780A
申请号 ：
CN202080063322.4
公开（公告）日 ：
2022-04-15
申请日 ：
2020-08-04
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
高桥智威清水哲也水谷笃史杉岛泰雄
申请人 ：
富士胶片株式会社
申请人地址 ：
日本国东京都
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
薛海蛟
优先权 ：
CN202080063322.4
主分类号 ：
C11D7/08
IPC分类号 ：
C11D7/08 C11D7/10 C11D7/26 C11D7/32 C11D7/34 C11D7/60 B08B3/08
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C11
动物或植物油、脂、脂肪物质或蜡；由此制取的脂肪酸；洗涤剂；蜡烛
C11D
洗涤剂组合物；用单一物质作为洗涤剂；皂或制皂；树脂皂；甘油的回收
C11D7/00
主要以非表面活性化合物为基料的洗涤剂组合物
C11D7/02
无机化合物
C11D7/04
水溶性化合物
C11D7/08
酸
法律状态
2022-05-03 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C11D 7/08
申请日 : 20200804
申请日 : 20200804
2022-04-15 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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