晶片清洗装置及其清洗方法
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
本发明公开了一种晶片清洗装置及其清洗方法。所述晶片清洗装置包括：一转盘，用以承载及固定一晶片；一马达，与所述转盘耦接，用以转动所述转盘及所述晶片；一控制单元，电性连接于所述马达，用以控制所述马达以非固定转动方向转动所述转盘及所述晶片；以及一流体喷注器，设置于所述转盘的上方，用以喷注一流体清洗所述晶片的表面。
基本信息
专利标题 ：
晶片清洗装置及其清洗方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1958180A
申请号 ：
CN200510118759.0
公开（公告）日 ：
2007-05-09
申请日 ：
2005-10-31
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
彭国豪曾国邦
申请人 ：
旺宏电子股份有限公司
申请人地址 ：
台湾省新竹科学工业园区
代理机构 ：
北京市柳沈律师事务所
代理人 ：
陶凤波
优先权 ：
CN200510118759.0
主分类号 ：
B08B11/00
IPC分类号 ：
B08B11/00 B08B3/02 H01L21/304
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B08
清洁
B08B
一般清洁；一般污垢的防除
B08B11/00
专门适用于清洁柔韧的或精致的物品的方法或装置
法律状态
2010-07-21 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
号牌文件类型代码 : 1603
号牌文件序号 : 101003371924
IPC(主分类) : B08B 11/00
专利申请号 : 2005101187590
公开日 : 20070509
号牌文件序号 : 101003371924
IPC(主分类) : B08B 11/00
专利申请号 : 2005101187590
公开日 : 20070509
2007-07-04 ：
实质审查的生效
2007-05-09 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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