晶片清洗装置
授权
摘要
本实用新型提供一种晶片清洗装置，包括振动组件和旋转组件，其中，振动组件用于驱动晶片振动；旋转组件与振动组件连接，驱动组件包括用于支撑晶片载体的承载面，且驱动组件用于驱动位于晶片载体内的晶片在振动的同时沿自身轴线旋转。本实用新型提供的晶片清洗装置能够提高晶片的清洗均匀性，使晶片的清洗效果得到提高。
基本信息
专利标题 ：
晶片清洗装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921316023.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-08-14
授权号 ：
CN211304029U
授权日 ：
2020-08-21
发明人 ：
胡睿凡赵曾男
申请人 ：
北京北方华创微电子装备有限公司
申请人地址 ：
北京市北京经济技术开发区文昌大道8号
代理机构 ：
北京天昊联合知识产权代理有限公司
代理人 ：
彭瑞欣
优先权 ：
CN201921316023.8
主分类号 ：
B08B3/10
IPC分类号 ：
B08B3/10 B08B13/00
相关图片
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B08
清洁
B08B
一般清洁；一般污垢的防除
B08B3/00
使用液体或蒸气的清洁方法
B08B3/04
与液体接触的清洁
B08B3/10
对液体或被净化物体进行附加处理的，如用加热，电力，振动
法律状态
2020-08-21 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN211304029U.PDF
PDF下载
