基于透镜阵列的光束匀化器
授权
摘要
一种用于光束匀化器(100)的校正掩模(10)包括透镜阵列(11)。校正掩模配置为提供成形的初始光束轮廓(I0’)。入射光束(B0)和照明平面(14)之间的多个光路(Pa)的子集至少部分地被校正掩模(10)阻挡以提供进一步均匀化光束轮廓(I2)，光束轮廓(I2)具有相对于初始均匀化光束轮廓(I1)进一步减小的光强度变化(ΔI2)。掩模包括根据与透镜阵列(11)的透镜网格布局(L)匹配的掩模网格布局(M)布置的多个子掩模(10a)。子掩模(10a)中的每一个设计有特定的子掩模图案，以成形(S)初始光束轮廓(I0)的通过小透镜(11a)中的特定一个的相应子区域。
基本信息
专利标题 ：
基于透镜阵列的光束匀化器
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN110214291A
申请号 ：
CN201780069455.0
公开（公告）日 ：
2019-09-06
申请日 ：
2017-09-18
授权号 ：
CN110214291B
授权日 ：
2022-06-10
发明人 ：
阿德里安努斯·约翰内斯·帕特鲁斯·玛利亚·维梅尔米哈伊尔·尤利耶维奇·洛克特夫德克·安德烈·科特
申请人 ：
库力&索法利特克有限公司
申请人地址 ：
荷兰埃因霍温
代理机构 ：
北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
王达佐
优先权 ：
CN201780069455.0
主分类号 ：
G02B27/09
IPC分类号 ：
G02B27/09
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B27/00
不能分入G02B 1/00-G02B 26/00,G02B 30/00的其它光学系统或其它光学仪器
G02B27/09
其他位置不包括的光束整形，例如改变横截面积
法律状态
2022-06-10 ：
授权
2019-10-08 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 27/09
申请日 : 20170918
申请日 : 20170918
2019-09-06 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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