波导过渡结构和制造方法
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摘要
本公开的一些实施例描述了一种锥形波导和一种制造锥形波导的方法，其中，锥形波导包括第一和第二波导，其中，第一和第二波导在波导重叠区域中重叠。第一和第二波导在与电磁辐射通过所述锥形波导传播的预期方向垂直的至少一个维度上具有不同尺寸。跨越波导重叠区域，波导之一逐渐过渡或逐渐变窄到另一个。
基本信息
专利标题 ：
波导过渡结构和制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN110024215A
申请号 ：
CN201780073967.4
公开（公告）日 ：
2019-07-16
申请日 ：
2017-11-29
授权号 ：
CN110024215B
授权日 ：
2022-06-07
发明人 ：
Y·切特里特J·D·里克曼J·B·德里斯科尔H·弗里希L·廖
申请人 ：
英特尔公司
申请人地址 ：
美国加利福尼亚
代理机构 ：
永新专利商标代理有限公司
代理人 ：
林金朝
优先权 ：
CN201780073967.4
主分类号 ：
H01P3/12
IPC分类号 ：
H01P3/12
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法律状态
2022-06-07 ：
授权
2020-01-24 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01P 3/12
申请日 : 20171129
申请日 : 20171129
2019-07-16 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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