测量系统和用于操作测量系统的方法
授权
摘要
一种用于操作测量系统(100)的方法，包括：使用辐射源(19)生成沿着中央射线(27)指向的电磁辐射光束(25)；相对于目标区域(35)移动所述辐射源(19)，使得中央射线(27)在所述移动期间指向辐射检测器(31)；其中，相对于所述目标区域(35)移动所述辐射源(19)包括：绕第一旋转轴线(D1)旋转所述辐射源(19)，其中，所述辐射源(19)偏心于第一旋转轴线(D1)布置；绕第二旋转轴线(D2)旋转所述辐射源(19)，其中，所述第一旋转轴线(D1)和所述第二旋转轴线(D2)一起包围形成锐角(α)，其大小为最大80°。
基本信息
专利标题 ：
测量系统和用于操作测量系统的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN110050185A
申请号 ：
CN201780075705.1
公开（公告）日 ：
2019-07-23
申请日 ：
2017-11-08
授权号 ：
CN110050185B
授权日 ：
2022-05-10
发明人 ：
C·索尔温M·克鲁姆
申请人 ：
射线扫描技术有限公司
申请人地址 ：
德国梅尔斯堡
代理机构 ：
北京三友知识产权代理有限公司
代理人 ：
王小东
优先权 ：
CN201780075705.1
主分类号 ：
G01N23/046
IPC分类号 ：
G01N23/046
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N23/00
利用波或粒子辐射来测试或分析材料，例如未包括在G01N3/00-G01N17/00、G01N 21/00 或G01N 22/00中的X射线或中子
G01N23/02
通过使辐射透过材料
G01N23/04
并形成材料的图片
G01N23/046
应用X光断层技术，如计算机X光断层技术
法律状态
2022-05-10 ：
授权
2019-11-19 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01N 23/046
申请日 : 20171108
申请日 : 20171108
2019-07-23 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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