铝制磁盘的制造方法
授权
摘要

本发明在一个方案中提供一种铝制磁盘的制造方法,其提高磁性层形成前的基板表面的平滑性,能够高成品率地获得能够介质化的硬盘用基板。本发明在一个方案中涉及一种铝制磁盘的制造方法,其包括下述工序1及2,工序1:使含有具有至少1个下述式(I)所示的结构且分子量为50以上且100,000以下的化合物(成分A)的组合物与镀Ni‑P的铝合金基板的基板表面接触的工序;工序2:在工序1中所得的基板上形成磁性层的工序。

基本信息
专利标题 :
铝制磁盘的制造方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN111566735A
申请号 :
CN201780097992.6
公开(公告)日 :
2020-08-21
申请日 :
2017-12-27
授权号 :
CN111566735B
授权日 :
2022-06-03
发明人 :
安藤庆介
申请人 :
花王株式会社
申请人地址 :
日本国东京都
代理机构 :
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 :
王永红
优先权 :
CN201780097992.6
主分类号 :
G11B5/84
IPC分类号 :
G11B5/84  G11B5/73  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G11
信息存储
G11B
基于记录载体和换能器之间的相对运动而实现的信息存储
G11B5/00
借助于记录载体的激磁或退磁进行记录的;用磁性方法进行重现的;为此所用的记录载体
G11B5/84
专用于制造记录载体的方法或设备
法律状态
2022-06-03 :
授权
2020-10-30 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G11B 5/84
申请日 : 20171227
2020-08-21 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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