磁盘及其制造方法
驳回申请决定
摘要
磁盘，其上配置一层具有大量槽沟的磁膜，这些槽沟非常细，因而不会产生位误差，同时磁膜的增强材料被容纳在这些槽里。因此，为了增强磁膜的强度，可给磁膜添加大量的增强材料，也不致使磁盘的电性能下降。
基本信息
专利标题 ：
磁盘及其制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN86106834A
申请号 ：
CN86106834
公开（公告）日 ：
1987-04-08
申请日 ：
1986-10-02
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
坂口勇夫
申请人 ：
株式会社日立制作所
申请人地址 ：
日本东京都千代田区神田骏河台四丁目6番
代理机构 ：
中国专利代理有限公司
代理人 ：
奚汉民
优先权 ：
CN86106834
主分类号 ：
G11B5/855
IPC分类号 ：
G11B5/855
IPC结构图谱
G
G部——物理
G11
信息存储
G11B
基于记录载体和换能器之间的相对运动而实现的信息存储
G11B5/00
借助于记录载体的激磁或退磁进行记录的；用磁性方法进行重现的；为此所用的记录载体
G11B5/84
专用于制造记录载体的方法或设备
G11B5/855
只涂一磁性层支承的一部分
法律状态
1989-02-22 ：
驳回申请决定
1987-04-08 ：
公开
1987-04-01 ：
实质审查请求
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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