有源材质层及其制造方法、显示面板

授权

摘要

本申请公开了一种有源材质层及其制造方法、显示面板，属于显示技术领域。所述有源材质层的制造方法包括：在基板上采用预设方式沉积非晶硅层，预设方式包括：等离子体增强化学气相沉积PECVD方式；在非晶硅层上采用原子层沉积方式沉积类单晶硅层，以得到包括非晶硅层和类单晶硅层的有源材质层。本申请解决了使用PECVD方式沉积的非晶硅内部含有较多硅的未饱和悬挂键或者存在位错空位，有源材质层的均匀性，有源层的性能较差的问题。本申请用于有源材质层的制造。

基本信息

专利标题：

有源材质层及其制造方法、显示面板

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN108257978A

申请号：

CN201810031419.1

公开（公告）日：

2018-07-06

申请日：

2018-01-12

授权号：

CN108257978B

授权日：

2022-04-15

发明人：

曹英李小龙辛燕霞李雪萍张锴周才龙

申请人：

京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司

申请人地址：

北京市朝阳区酒仙桥路10号

代理机构：

北京三高永信知识产权代理有限责任公司

代理人：

滕一斌

优先权：

CN201810031419.1

主分类号：

H01L27/12

IPC分类号：

H01L27/12