像素单元和形成像素单元的方法及数字相机的成像系统组件
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摘要

一种像素单元,包含第一基底,光电二极管,读出电路,传输晶体管及反射结构。所述光电二极管设置在第一半导体芯片的第一基底内,累积电荷以响应入射到其上的光。所述读出电路设置在第二半导体芯片的第二基底内。所述传输晶体管连接至所述光电二极管和所述读出电路之间,将电荷从光电二极管传输至读出电路。所述反射结构设置于所述读出电路和所述光电二极管之间,用于将未被吸收的通过光电二极管的入射光反射回到所述光电二极管进行第二次吸收。

基本信息
专利标题 :
像素单元和形成像素单元的方法及数字相机的成像系统组件
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN108305885A
申请号 :
CN201810099871.1
公开(公告)日 :
2018-07-20
申请日 :
2018-01-31
授权号 :
CN108305885B
授权日 :
2022-06-03
发明人 :
徐辰高秉强邵泽旭
申请人 :
思特威电子科技(美国)有限公司
申请人地址 :
美国加利福尼亚州
代理机构 :
上海汉声知识产权代理有限公司
代理人 :
胡晶
优先权 :
CN201810099871.1
主分类号 :
H01L27/146
IPC分类号 :
H01L27/146  H04N5/374  
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法律状态
2022-06-03 :
授权
2021-03-26 :
著录事项变更
IPC(主分类) : H01L 27/146
变更事项 : 申请人
变更前 : 思特威(上海)电子科技有限公司
变更后 : 思特威(上海)电子科技股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 201203 上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区祥科路111号3号楼6楼612室
变更后 : 201203 上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区祥科路111号3号楼6楼612室
2019-05-21 :
著录事项变更
IPC(主分类) : H01L 27/146
变更事项 : 申请人
变更前 : 上海晔芯电子科技有限公司
变更后 : 思特威(上海)电子科技有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 201203 上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区祥科路111号3号楼6楼612室
变更后 : 201203 上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区祥科路111号3号楼6楼612室
2019-03-22 :
专利申请权、专利权的转移
专利申请权的转移IPC(主分类) : H01L 27/146
登记生效日 : 20190304
变更事项 : 申请人
变更前权利人 : 思特威电子科技(美国)有限公司
变更后权利人 : 上海晔芯电子科技有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 加利福尼亚州
变更后权利人 : 上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区祥科路111号3号楼6楼612室
2018-08-14 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 27/146
申请日 : 20180131
2018-07-20 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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