摩尔纹模拟方法及装置、存储介质、电子设备
授权
摘要
本公开涉及计算机技术领域，尤其涉及一种摩尔纹模拟方法及装置、存储介质、电子设备。该方法可以包括：提供一传感器层图案和一色阻图案；根据所述传感器层图案距所述色阻图案的距离、观测点相对所述传感器层图案的位置，对所述色阻图案中与所述传感器层图案中的点对应的点进行校正；根据校正后的所述色阻图案中与所述传感器层图案中的点对应的点的坐标将所述传感器层图案和所述色阻图案进行叠加，以获取目标图案；对所述目标图案进行处理以得到模拟结果。本公开提高了目标图案的精确度，进而提高了摩尔纹模拟的精准度，从而可以有效改善模拟结果与实际结果不匹配的问题，进而提高传感器层图案的良率，同时也有效的避免了设计风险。
基本信息
专利标题 ：
摩尔纹模拟方法及装置、存储介质、电子设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN108509706A
申请号 ：
CN201810253656.2
公开（公告）日 ：
2018-09-07
申请日 ：
2018-03-26
授权号 ：
CN108509706B
授权日 ：
2022-04-29
发明人 ：
毛大龙高坤坤付剑波黄中浩吴海龙赵永亮冉敏梁鹏王瑞
申请人 ：
京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司
申请人地址 ：
北京市朝阳区酒仙桥路10号
代理机构 ：
北京律智知识产权代理有限公司
代理人 ：
王卫忠
优先权 ：
CN201810253656.2
主分类号 ：
G06F17/50
IPC分类号 ：
G06F17/50
法律状态
2022-04-29 ：
授权
2018-10-09 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G06F 17/50
申请日 : 20180326
申请日 : 20180326
2018-09-07 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN108509706A.PDF
PDF下载
