一种镍钛合金支架表面处理方法
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摘要

本发明属于表面工程技术和生物材料领域,尤其是一种镍钛合金支架表面处理方法。一种镍钛合金支架表面处理方法,其特征是包括如下步骤:(1)对镍钛合金支架先用水磨砂纸打磨,去除表面初始粗糙状态,然后在丙酮、去离子水中清洗、吹干获得光亮表面;(2)采用阳极氧化技术,去除镍钛合金中的镍;(3)采用磁控溅射方法,利用电声换能装置的辅助作用,在镍钛合金支架表面,磁控溅射氮化钛薄膜层。本发明的有益效果:通过间歇性声波控制,有效的增强附着在金属丝表面层附着力。

基本信息
专利标题 :
一种镍钛合金支架表面处理方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN109207946A
申请号 :
CN201811061988.7
公开(公告)日 :
2019-01-15
申请日 :
2018-09-12
授权号 :
CN109207946B
授权日 :
2022-05-20
发明人 :
丁红
申请人 :
杭州联芳科技有限公司
申请人地址 :
浙江省杭州经济技术开发区白杨街道科技园路2号5幢1层01-11单元93工位
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN201811061988.7
主分类号 :
C23C14/35
IPC分类号 :
C23C14/35  C23C14/06  C23C14/58  C25D11/02  C23F17/00  
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IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的,例如磁控溅射
法律状态
2022-05-20 :
授权
2020-10-27 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/35
申请日 : 20180912
2019-01-15 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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