用于校正模型化氨填充水平的方法
授权
摘要
本发明涉及一种用于校正SCR催化系统（20）中的下游SCR催化器（22）的模型化氨填充水平的方法，该SCR催化系统具有两个相继布置在排气管路（11）中的SCR催化器（21、22）。将下游SCR催化器（22）下游的预期氮氧化物质量流量与在下游SCR催化器（22）的下游处测得的氮氧化物质量流量相比较。基于比较结果进行校正。
基本信息
专利标题 ：
用于校正模型化氨填充水平的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN109854347A
申请号 ：
CN201811444942.3
公开（公告）日 ：
2019-06-07
申请日 ：
2018-11-29
授权号 ：
CN109854347B
授权日 ：
2022-04-15
发明人 ：
F.施魏策
申请人 ：
罗伯特·博世有限公司
申请人地址 ：
德国斯图加特
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
方莉
优先权 ：
CN201811444942.3
主分类号 ：
F01N11/00
IPC分类号 ：
F01N11/00 F01N3/20 F01N9/00
IPC结构图谱
F
F部——机械工程；照明；加热；武器；爆破
F01
一般机器或发动机；一般的发动机装置；蒸汽机
F01N
一般机器或发动机的气流消音器或排气装置；内燃机的气流消音器或排气装置
F01N
一般机器或发动机的气流消音器或排气装置；内燃机的气流消音器或排气装置
F01N11/00
排气处理装置的监控或诊断装置
法律状态
2022-04-15 ：
授权
2020-12-18 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : F01N 11/00
申请日 : 20181129
申请日 : 20181129
2019-06-07 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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