模型扫描装置及其校正方法
授权
摘要
本发明提出一种模型扫描装置及其校正方法。模型扫描装置包括承载模组、投影模组以及取样模组。承载模组设置在模型扫描装置的装置主体。投影模组设置在模型扫描装置的装置主体，并且位于承载模组上方。取样模组可调整地设置在模型扫描装置的延伸臂的定位架上，以倾斜地朝向承载模组。取样模组在定位架上的设置位置依据取样模组的取样焦距来决定。因此，本发明的模型扫描装置及其校正方法可提供便捷且精确的扫描效果。
基本信息
专利标题 ：
模型扫描装置及其校正方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111258056A
申请号 ：
CN201811453610.1
公开（公告）日 ：
2020-06-09
申请日 ：
2018-11-30
授权号 ：
CN111258056B
授权日 ：
2022-05-31
发明人 ：
林庚达蔡元勋胡博期
申请人 ：
财团法人金属工业研究发展中心
申请人地址 ：
中国台湾高雄市楠梓区高楠公路1001号
代理机构 ：
北京同立钧成知识产权代理有限公司
代理人 ：
吴志红
优先权 ：
CN201811453610.1
主分类号 ：
G02B26/10
IPC分类号 ：
G02B26/10
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B26/00
利用可移动的或可变形的光学元件控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的光学器件或装置，例如，开关、选通或调制
G02B26/08
控制光的方向
G02B26/10
扫描系统
法律状态
2022-05-31 ：
授权
2020-07-03 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 26/10
申请日 : 20181130
申请日 : 20181130
2020-06-09 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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