防穿光结构及定位基站
授权
摘要

本发明提供了一种防穿光结构及定位基站,该防穿光结构包括遮光支架,遮光支架具有多个导光孔;第一导光部,具有透光性,第一导光部设于导光孔内,且第一导光部的一端面向光源设置;第二导光部,具有透光性和弹性,第二导光部设于导光孔内,且第二导光部的一端与第一导光部抵接,第二导光部的另一端延伸至遮光支架的表面。本发明提供的防穿光结构及定位基站,遮光支架能够防止光线从第一导光部、第二导光部穿出,而且第二导光部具有弹性,能够与基站的外壳相互挤压配合,增强密封性能,以适应复杂的工作环境。

基本信息
专利标题 :
防穿光结构及定位基站
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN109714651A
申请号 :
CN201811639465.6
公开(公告)日 :
2019-05-03
申请日 :
2018-12-29
授权号 :
CN109714651B
授权日 :
2022-04-15
发明人 :
吴永锋刘梅春李剑波丁宏钰陈小国熊友军庞建新
申请人 :
深圳市优必选科技有限公司
申请人地址 :
广东省深圳市南山区学苑大道1001号南山智园C1栋16、22楼
代理机构 :
深圳中一联合知识产权代理有限公司
代理人 :
张全文
优先权 :
CN201811639465.6
主分类号 :
H04Q1/02
IPC分类号 :
H04Q1/02  H04Q1/08  F21V8/00  
法律状态
2022-04-15 :
授权
2019-05-28 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H04Q 1/02
申请日 : 20181229
2019-05-03 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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