具有偏移布局的基准的系统和方法
授权
摘要
基准标记设置在可用于例如测序的分子分析的类型的图案化阵列上。基准可以具有增强它们在图像或检测数据中的检测、便于或改进处理、提供有用信息的编码等的配置和布局。基准的示例可以包括偏移布局，其在不同类型和方法的成像中检查基准时可以是有用的，并且可以帮助在图像数据中将阵列的区域彼此区分。
基本信息
专利标题 ：
具有偏移布局的基准的系统和方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN109416322A
申请号 ：
CN201880002673.7
公开（公告）日 ：
2019-03-01
申请日 ：
2018-01-31
授权号 ：
CN109416322B
授权日 ：
2022-05-24
发明人 ：
约翰·S·维塞利亚历克斯·尼米罗斯基保罗·贝利茨罗伯特·朗格卢瓦M·谢恩·鲍恩陈元权巴拉·穆拉利·K·文卡特桑韩辉凯万·萨米斯蒂芬·坦纳
申请人 ：
伊鲁米那股份有限公司
申请人地址 ：
美国加利福尼亚州
代理机构 ：
北京安信方达知识产权代理有限公司
代理人 ：
王玮玮
优先权 ：
CN201880002673.7
主分类号 ：
G01N21/64
IPC分类号 ：
G01N21/64
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段，即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/62
所测试的材料在其中被激发，因之引起材料发光或入射光的波长发生变化的系统
G01N21/63
光学激发的
G01N21/64
荧光；磷光
法律状态
2022-05-24 ：
授权
2019-03-26 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01N 21/64
申请日 : 20180131
申请日 : 20180131
2019-03-01 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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