用于引导自由电子激光器输出束的光学组件
授权
摘要
一种光学组件(13)，用以将自由电子激光器(FEL、2)的输出束(2a)引导至EUV投射曝光装置的下游照明光学组件(15)。光学组件(13)具有第一及第二GI反射镜(23、25)，其每一个具有将由输出束(2a)撞击的结构化反射表面(24、26)。在第一GI反射镜(23)上的第一入射角(α1)大于1mrad且小于10mrad。产生最大的第一散射角，其为第一入射角(α1)的至少50％且至多100％。在第二GI反射镜(25)上的第二入射角(α2)为第一入射角(α1)的至少两倍大。输出束(2a)的最大第二散射角为第二入射角(α2)的至少30％且至多100％。两个GI反射镜(23、25)上的两入射平面(yz、xy)包含相对彼此大于45°的一角度。这使得光学组件能够可靠地引导FEL的输出束且具有足够的光学组成部分的使用寿命。具有两电极的中空波导及离子化光源可为此光学组件(13)的构成部分。具有至少一个磁极靴对的磁体
基本信息
专利标题 ：
用于引导自由电子激光器输出束的光学组件
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN110476124A
申请号 ：
CN201880022245.0
公开（公告）日 ：
2019-11-19
申请日 ：
2018-03-21
授权号 ：
CN110476124B
授权日 ：
2022-04-29
发明人 ：
M.帕特拉
申请人 ：
卡尔蔡司SMT有限责任公司
申请人地址 ：
德国上科亨
代理机构 ：
北京市柳沈律师事务所
代理人 ：
王蕊瑞
优先权 ：
CN201880022245.0
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 G02B17/08 G02B5/02 G02B5/08
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-04-29 ：
授权
2020-04-24 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20180321
申请日 : 20180321
2019-11-19 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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