用于引导EUV辐射的光学照明系统
公开
摘要
本发明涉及光学照明系统，用于在源区域(4)、EUV光源(2)与物场(18)之间引导EUV辐射(3)，在物场(18)中可以布置待成像的物体(23)。照明系统具有至少两个(7、14)EUV反射镜部件(5、7、14、19)，它们反射EUV辐射(3)并在源区域(4)与物场(18)之间依次引导EUV辐射。光学衍射部件(31)布置在两个EUV反射镜部件(7、14)的每一个上以抑制杂散光辐射。这些光学衍射部件(31)中的至少两个被设计为抑制各种杂散光波长。布置在EUV反射镜部件中的第一个上的两个光学衍射部件中的第一个被设计为具有至少第一结构深度的光栅，并且布置在EUV反射镜部件中的第二个上的两个光学衍射部件中的第二个被设计为具有至少不同第二结构深度的光栅。结果是改进了对杂散光的抑制。
基本信息
专利标题 ：
用于引导EUV辐射的光学照明系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114450639A
申请号 ：
CN202080068543.0
公开（公告）日 ：
2022-05-06
申请日 ：
2020-07-10
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
M.帕特拉
申请人 ：
卡尔蔡司SMT有限责任公司
申请人地址 ：
德国上科亨
代理机构 ：
北京市柳沈律师事务所
代理人 ：
王蕊瑞
优先权 ：
CN202080068543.0
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-05-06 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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