起偏振器保护膜及其制造方法
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摘要
提供了起偏振器保护膜及其制造方法，并且更特别地，提供了制造能够表现出优异的物理和光学特性并且能够防止下偏光板受损的起偏振器保护膜的方法。
基本信息
专利标题 ：
起偏振器保护膜及其制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN110720057A
申请号 ：
CN201880037397.8
公开（公告）日 ：
2020-01-21
申请日 ：
2018-02-21
授权号 ：
CN110720057B
授权日 ：
2022-04-12
发明人 ：
朴俊昱林伊琅金圣仁金倞源
申请人 ：
株式会社LG化学
申请人地址 ：
韩国首尔
代理机构 ：
北京集佳知识产权代理有限公司
代理人 ：
赵丹
优先权 ：
CN201880037397.8
主分类号 ：
G02B1/14
IPC分类号 ：
G02B1/14 C08J7/04 C08J5/18 B29D11/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B1/00
按制造材料区分的光学元件；用于光学元件的光学涂层
G02B1/10
对光学元件表面涂覆或对它进行表面处理后所产生的光学涂层
G02B1/14
保护涂层。例如，硬涂层
法律状态
2022-04-12 ：
授权
2020-02-21 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 1/14
申请日 : 20180221
申请日 : 20180221
2020-01-21 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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