光学膜

授权

摘要

本发明提供一种光学膜，其中，光选择吸收层中所含的选择性地吸收400nm附近的短波长可见光的化合物不会向光选择吸收层以外的层中转移，能够抑制相位差膜的劣化，并且可赋予良好的显示特性。一种光学膜，其包含至少1层由活性能量射线固化性组合物形成的光选择吸收层，且满足下述式(1)：A(405)≥0.5 (1)。[式(1)中，A(405)表示在波长405nm下的吸光度]。

基本信息

专利标题：

光学膜

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN110799865A

申请号：

CN201880042772.8

公开（公告）日：

2020-02-14

申请日：

2018-06-21

授权号：

CN110799865B

授权日：

2022-06-10

发明人：

阪上智惠小桥亚依浅津悠司

申请人：

住友化学株式会社

申请人地址：

日本国东京都

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司

代理人：

葛凡

优先权：

CN201880042772.8

主分类号：

G02B5/22

IPC分类号：

G02B5/22 B32B7/02 B32B27/18 B32B27/30 B32B27/38 G02B5/30 G02F1/13363 G09F9/00 H01L27/32 H01L51/50 H05B33/02